Wafer reclaim
Reclaim for defect
-
Epitaxial 불량 Wafer 입고
-
단면 연마하여 Wafer Epi Layer 제거 공정
-
Wafer 표면 고평탄화 및 스크래치 제거 공정
-
Wafer 표면 불순물 제거 공정
-
Wafer Epi-ready 표면 확보
Reclaim for defect
Epitaxial 불량 Wafer 입고
단면 연마하여 Wafer Epi Layer 제거 공정
Wafer 표면 고평탄화 및 스크래치 제거 공정
Wafer 표면 불순물 제거 공정
Wafer Epi-ready 표면 확보
Senic은 SiC 및 GaN Wafer를 비롯한 다양한 화합물/질화물/산화물 소재에 대해 고객 맞춤형 제품을 제공하고 있습니다.
Senic 만의 가공 노하우를 바탕으로 Epitaxial 불량 Wafer를 고품질 Epi-ready 표면으로 재가공하는 기술을 보유하고 있습니다.(100㎜/150㎜)
Copyright © 주식회사 쎄닉. All Rights Reserved. ADMIN